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  型匀胶显影机适应于半导体、化工资料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的外表显影。一般匀胶显影机由动力体系、显影液槽及喷液管、水洗槽、揉捏

  显影体系具有可编程阀，它能够使单注射器试剂滴胶依照蚀刻、显影和清洗使用的要求重复进行，如冲刷（通常是去离子水或溶剂），然后枯燥（通常是氮气）等后的处理进程。选用此序贯阀门技能的晶圆片和管道在彻底枯燥的环境中注册和封闭处理进程。阻隔和独立的给水器可处在静态的方位还能够盖内调理。匀胶显影机还有可选择的动态线性或径向滴胶的特性。

  2、Wafer&芯片：直径6英寸（150毫米）的晶圆片或许5x5英寸（125毫米）的方片；

  3、非真空托盘：聚丙烯原料非线毫米的晶圆片-并带有反面清洗功用；3、滚动速度：0-12,000rpm，

  /分，可重复性小于±0.5转/分，美国国家标准技能研究院（NIST）过的，而且无需再校准！]10、腔体开关盖板：通明ECTFE原料圆顶盖板，便于实时进行可视化操作；

  11、腔体原料阐明：用聚丙烯原料制成的带有联动传感触点的合瓣式舱体；12